Optisches Abbildungssystem und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem Derartigen Optischen Abbildungssystem

EP2396700 Art B1 3. April 2013

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2396700
Aktenzeichen: EP10703618
Anmeldetag: 2. Februar 2010
Veröffentlichung: 3. April 2013
Erteilung: 3. April 2013
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20G02B17/06

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von