Plasmabehandlungsvorrichtung und Plasmabehandlungsmethode

EP2423944 Art B1 2. August 2017

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2423944
Aktenzeichen: EP11006826
Anmeldetag: 19. August 2011
Veröffentlichung: 2. August 2017
Erteilung: 2. August 2017
Rechtsraum: EP
IPC: H01J37/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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