Zusammensetzung zur Bildung einer dielektrischen Dünnschicht, Verfahren zur Bildung einer dielektrischen Dünnschicht und durch das Verfahren gebildete dielektrische Dünnschicht

EP2431986 Art B1 21. Juni 2017

Anmelder: Mitsubishi Materials Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2431986
Aktenzeichen
EP11179607
Anmeldetag
31. August 2011
Veröffentlichung
21. Juni 2017
Erteilung
21. Juni 2017
Rechtsraum
EP
IPC
H01G7/06H01G4/12C04B35/468C04B35/622C04B35/47// H01L21/02H01L49/02
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Mitsubishi Materials Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Mitsubishi Materials

Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.

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Kanzlei
Cabinet Beaumont

Das Cabinet Beaumont wurde 1985 gegründet und ist im französischen Grenoble ansässig. Es setzt bewusst auf ein integriertes Team aus Ingenieuren und Juristen, die alle auf gewerblichen Rechtsschutz spezialisiert sind, für ein breites technisches Spektrum.

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