Zusammensetzung zur Bildung einer dielektrischen Dünnschicht, Verfahren zur Bildung einer dielektrischen Dünnschicht und durch das Verfahren gebildete dielektrische Dünnschicht
EP2431986
Art B1
21. Juni 2017
Anmelder: Mitsubishi Materials Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2431986
- Aktenzeichen
- EP11179607
- Anmeldetag
- 31. August 2011
- Veröffentlichung
- 21. Juni 2017
- Erteilung
- 21. Juni 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01G7/06H01G4/12C04B35/468C04B35/622C04B35/47// H01L21/02H01L49/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Materials Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Materials
Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.
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Kanzlei
Cabinet Beaumont
Das Cabinet Beaumont wurde 1985 gegründet und ist im französischen Grenoble ansässig. Es setzt bewusst auf ein integriertes Team aus Ingenieuren und Juristen, die alle auf gewerblichen Rechtsschutz spezialisiert sind, für ein breites technisches Spektrum.
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Cabinet Beaumont
Cabinet Beaumont · Grenoble
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de Beaumont, Michel
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