Verfahren und System zur Beurteilung der Flachheit von EUV Masken
Anmelder: IMEC, Intel Corporation, Intel Corporation (INTEL) 🇧🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2434345
- Aktenzeichen
- EP10194072
- Anmeldetag
- 8. Dezember 2010
- Veröffentlichung
- 3. Juli 2013
- Erteilung
- 3. Juli 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G03F1/00
Abstract
A method (200) for evaluating a lithographic system or component thereof is described. The method (200) comprises directing (204) electromagnetic radiation of a second wavelength or wavelength range, different from electromagnetic radiation of a first wavelength or wavelength range for lithographic processing in the lithographic system, to a lithographic optical element and detecting at least part of the electromagnetic radiation being reflected from the lithographic optical element at a substrate comprising a photosensitive layer, thereafter evaluating (205) the detected electromagnetic radiation, and determining (206) from the evaluation of the exposed photosensitive layer a topographical parameter of the lithographic optical element and/or a holder thereof.
Anmelder
- Firmen
- IMEC
Intel Corporation
Intel Corporation (INTEL) - Land
- 🇧🇪 Belgien
Imec ist ein belgisches Forschungszentrum mit Sitz in Leuven, das auf Nanoelektronik, Halbleitertechnologie und digitale Technologien spezialisiert ist.
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US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.
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