Wauters, Davy Erik Angelo
Über neue Patente informiert werden
Erhalten Sie wöchentlich eine E-Mail, sobald neue Patente mit Wauters, Davy Erik Angelo als Vertreter veröffentlicht werden.
Erfolgreich angemeldet!
Sie erhalten ab sofort wöchentliche Berichte zu neuen Patenten von Wauters, Davy Erik Angelo.
Patente
165 gesamt| Patent | |||
|---|---|---|---|
|
02.07.2025 · IMEC VZW
Wellenleiterintegrierter Plasmonenresonator für integrierte SERS-Messungen
|
|||
|
Status
Angemeldet am 14.05.2012
Erteilt am 02.07.2025
Vertretung
Wauters, Davy Erik Angelo · Boortmeerbeek
Winger · Boortmeerbeek
Zusammenfassung
A resonator structure (100) for supporting radiation in a resonating cavity (170) is described. The resonator structure (100) comprises a metal insulator - metal waveguide, the metal insulator - metal waveguide comprising two metal layers (110, 130) and an insulating layer (120) sandwiched between the two metal layers (110, 130). The resonator structure (100) also comprises at least one nano-scale metallic reflector (160a, 160b), the at least one nano-scale metallic reflector (160a, 160b) being positioned at least partly in the insulating layer (120) and forming at least one mirror of the resonating cavity in the insulating layer (120). |
|||
|
28.06.2023 · IMEC VZW
Verfahren und System zur optischen Multiplexanalyse
|
|||
|
Status
Angemeldet am 02.05.2012
Erteilt am 28.06.2023
Vertretung
Wauters, Davy Erik Angelo · Boortmeerbeek
Winger · Boortmeerbeek
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
19.04.2023 · Etex Building Performance Int…
Paraseismische Trennwand
|
|||
|
Status
Angemeldet am 28.06.2012
Erteilt am 19.04.2023
Vertretung
Van Steenlandt, Wim August Maria · Kapelle-op-den-Bos
Wauters, Davy Erik Angelo · Boortmeerbeek
Etex Services NV - Etex IPSC · Kapelle-op-den-Bos
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
16.02.2022 · Melexis Technologies NV
Hall-Sensor-Array
|
|||
|
Status
Angemeldet am 05.12.2008
Erteilt am 16.02.2022
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
03.03.2021 · Indigo Diabetes NV
Implantierbarer Sensor
|
|||
|
Status
Angemeldet am 09.09.2010
Erteilt am 03.03.2021
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
22.07.2020 · IMEC VZW
Ausleseschaltung für Bildsensoren
|
|||
|
Status
Angemeldet am 16.10.2013
Erteilt am 22.07.2020
Vertretung
Wauters, Davy Erik Angelo · Boortmeerbeek
Winger · Boortmeerbeek
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
22.04.2020 · Pharmafluidics NV
Mikrofluidische Vorrichtung
|
|||
|
Status
Angemeldet am 12.07.2016
Erteilt am 22.04.2020
Vertretung
Wauters, Davy Erik Angelo · Boortmeerbeek
Winger · Boortmeerbeek
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
15.04.2020 · IMEC VZW
Verfahren zur Herstellung von Substratdurchkontaktierungen, die mit Isolationsgräben mit Luftspalt umgeben sind, sowie zugehöriges Bauelement
|
|||
|
Status
Angemeldet am 29.11.2011
Erteilt am 15.04.2020
Vertretung
Wauters, Davy Erik Angelo · Boortmeerbeek
Winger · Boortmeerbeek
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
19.02.2020 · Soleras Advanced Coatings bvba
Magnetische Konfiguration für ein Magnetron-Sputterauftragungssystem
|
|||
|
Status
Angemeldet am 07.06.2013
Erteilt am 19.02.2020
Vertretung
Wauters, Davy Erik Angelo · Boortmeerbeek
Winger · Boortmeerbeek
Zusammenfassung
A sputter deposition magnetron system for sputtering material, the sputter deposition magnetron system comprising at least a first and a second sputter magnetron unit. Each of the magnetron units (102, 106) comprise a magnet configuration and a mounting element for mounting a target (101, 105) so that the first and second magnet configuration contribute to the formation and confinement of a plasma allowing sputtering of the first respectively second target (101, 105). The sputter deposition magnetron system furthermore comprises at least one extra magnet configuration (103) distanced from the mounting element for targets, whereby the first, the second and the at least one magnet configuration are arranged for each contributing to a confined plasma configuration wherein at least part of the plasma is shared across the first and the second sputter magnetron unit. |
|||
|
25.12.2019 · Melexis Technologies NV
Verfahren und Systeme zur Steuerung von LEDs
|
|||
|
Status
Angemeldet am 27.09.2013
Erteilt am 25.12.2019
Vertretung
Wauters, Davy Erik Angelo · Boortmeerbeek
Winger · Boortmeerbeek
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
Vertretene Patentanmelder
Die Patentanmelder, die Wauters, Davy Erik Angelo in den erfassten Patenten am häufigsten vertritt.
| Anmelder | Anzahl Patente |
|---|---|
| 1. Ghent University | 48 |
| 2. Katholieke Universiteit Leuven | 17 |
| 3. Melexis Technologies | 7 |
| 4. Huawei | 2 |
| 5. Intel | 1 |
Patente nach Jahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung: so viele Anmeldungen sind für das Jahr insgesamt zu erwarten.