Metallenolat-Vorläufer zum Ablagern von metallhaltigen Filmen

EP2460807 Art B1 16. September 2015

Anmelder: Air Products and Chemicals, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2460807
Aktenzeichen
EP11191340
Anmeldetag
30. November 2011
Veröffentlichung
16. September 2015
Erteilung
16. September 2015
Rechtsraum
EP
IPC
C07F17/00C23C16/455C07F7/28C23C16/18C23C16/40
Offizieller Volltext

Abstract

Organometallic compounds suitable for use as vapor phase deposition precursors for metal-containing films are provided. Methods of depositing metal-containing films using certain organometallic precursors are also provided. Such metal-containing films are particularly useful in the manufacture of electronic devices.

Anmelder

Firma
Air Products and Chemicals, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Air Products

US-amerikanisches Industriegasunternehmen mit Sitz in Allentown, Pennsylvania, Hersteller und Lieferant von Industriegasen sowie zugehörigen Anlagen und Verfahrenstechnik.

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