Hocheffiziente elektrostatische Haltevorrichtung zur Verarbeitung von Halbleiterwafern
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2466633
- Aktenzeichen
- EP11178926
- Anmeldetag
- 25. August 2011
- Veröffentlichung
- 20. März 2019
- Erteilung
- 20. März 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/683H01L21/67C23C14/50C23C16/458H02N13/00
Abstract
The present invention generally provides a high efficiency electrostatic chuck including a flex stack having an electrode disposed between two layers of dielectric material. At least one of the layers is a standard or high purity thermoplastic film. The flex stack may have a matte finish on the substrate supporting surface to provide benefits such as improved temperature distribution across the surface of the chuck. The non-substrate supporting or pedestal receiving side of the flex stack may be plasma treated to provide a desired surface finish, which is then bonded to a pedestal using an acrylic or epoxy adhesive resulting in superior bonding strength compared to traditional polymer electrostatic chucks. The electrode may be a sheet electrode on a release liner, which enables ease of manufacturing.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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