Integration von flacher Grabenisolierung und Substratdurchkontaktierungen in integrierte Schaltungsentwürfe
Anmelder: LSI Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2466634
- Aktenzeichen
- EP11193092
- Anmeldetag
- 12. Dezember 2011
- Veröffentlichung
- 19. Juni 2019
- Erteilung
- 19. Juni 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/768H01L23/48H01L21/762
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- LSI Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
LSI (LSI Corporation) war ein US-amerikanischer Halbleiterhersteller für Speicher- und Kommunikationschips, der später in Avago beziehungsweise Broadcom aufging. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Software und Datenverarbeitung sowie Datenspeicherung und Schaltungstechnik, ergänzt um Nachrichtentechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen stammen aus den Jahren 2000 bis 2014.
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Fachgebiete
Page White & Farrer wurde bereits 1977 als Londoner Kanzlei europäischer Patentanwälte eingetragen, mit weiteren Büros in Leeds, Exeter und München. Berät zu Patenten, Marken, Designrechten sowie IP-Strategie und Finanzierungsrunden, Schwerpunkte Künstliche Intelligenz, Life Sciences und Cleantech.
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Dilg, Haeusler, Schindelmann Patentanwaltsgesellschaft mbH
Dilg, Haeusler, Schindelmann Patentanwaltsgesellschaft mbH · München