Epitaktischer Siliciumcarbid-Wafer und Herstellungsverfahren dafür

EP2472568 Art B1 12. Januar 2022

Anmelder: Showa Denko K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2472568
Aktenzeichen
EP10811903
Anmeldetag
25. August 2010
Veröffentlichung
12. Januar 2022
Erteilung
12. Januar 2022
Rechtsraum
EP
IPC
C30B25/20C30B29/36H01L21/02
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Showa Denko K.K.
Land
🇯🇵 Japan

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik
Vertreten von
Strehl, Peter München, Deutschland
206
Patente gesamt
27
Fachgebiete
6
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Halbleiter & Elektrische Bauelemente Medizintechnik & Gesundheit Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Verfahrens- & Trenntechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
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