Verfahren zur Formung einer Dielektrischen Dünnschicht und Dünnschichtkondensator mit der Dielektrischen Dünnschicht

EP2474505 Art B1 27. Juli 2016

Anmelder: Mitsubishi Materials Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2474505
Aktenzeichen: EP10813781
Anmeldetag: 2. September 2010
Veröffentlichung: 27. Juli 2016
Erteilung: 27. Juli 2016
Rechtsraum: EP
IPC: C04B35/468C04B35/47C04B35/624H01G4/33H01G7/06H01L49/02C01G23/00H01G4/12H01L21/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Materials Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Materials

Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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