Verfahren zur Erzeugung von Photolackstrukturen
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2482132
- Aktenzeichen
- EP12153137
- Anmeldetag
- 30. Januar 2012
- Veröffentlichung
- 16. Oktober 2019
- Erteilung
- 16. Oktober 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/039
Abstract
A resist pattern is formed by coating a chemically amplified positive resist composition onto a substrate and prebaking to form a resist film, exposing to high-energy radiation, baking and developing with a developer to form a resist pattern, and heating the pattern for profile correction to such an extent that the line width may not undergo a change of at least 10%. An amount of a softening accelerator having a molecular weight of up to 800 is added to the resist composition comprising (A) a base resin, (B) an acid generator, (C) a nitrogen-containing compound, and (D) an organic solvent.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Fachgebiete
-
Mewburn Ellis LLP
Mewburn Ellis LLP · München