Auf Bildverarbeitung Beruhendes Lithographiesystem und Zielobjektbeschichtungsverfahren

EP2485247 Art B1 31. Oktober 2018

Anmelder: SNU R&DB Foundation, SNU R & DB Foundation 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2485247
Aktenzeichen
EP10820818
Anmeldetag
29. September 2010
Veröffentlichung
31. Oktober 2018
Erteilung
31. Oktober 2018
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20G03F7/16H01L21/027H01L21/56H01L21/66H01L23/00H01L33/44G03F9/00B29C35/08C23C16/52
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
SNU R&DB Foundation
SNU R & DB Foundation
Land
🇰🇷 Südkorea
🇰🇷 SNU R&DB Foundation

Südkoreanische Stiftung der Seoul National University für Forschungsförderung und Technologietransfer, verwaltet Patente und Kooperationen mit der Industrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik
Vertreten von
Ritthaler, Wolfgang Freising, Deutschland
59
Patente gesamt
17
Fachgebiete
6
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Organische Chemie Medizintechnik & Gesundheit Pharma & Biotechnologie Kunststoff- & Polymertechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Landwirtschaft & Nahrungsmitteltechnik
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