Beleuchtungsoptik für die Projektionslithographie

Details

Veröffentlichungs-Nr.

EP2487543

Aktenzeichen

EP12152211

Anmeldetag

24. Januar 2012

Veröffentlichung

26. Juni 2019

Erteilung

26. Juni 2019

Rechtsraum

EP

IPC

G03F7/20

Abstract

Eine Beleuchtungsoptik (4) für die Projektionslithographie zur Ausleuchtung eines Objektfeldes (5), in dem ein abzubildendes Objekt (7) anordenbar ist, mit Beleuchtungslicht, hat einen Feldfacettenspiegel (20) mit einer Mehrzahl von Feldfacetten. Ein Pupillenfacettenspiegel (21) der Beleuchtungsoptik (4) hat eine Mehrzahl von Pupillenfacetten. Die Pupillenfacetten dienen zur Abbildung der jeweils den Pupillenfacetten individuell zugeordneten Feldfacetten in das Objektfeld (5). Ein Einzelspiegelarray (17) der Beleuchtungsoptik (4) hat individuell angesteuert verkippbare Einzelspiegel. Das Einzelspiegelarray (17) ist in einem Beleuchtungslicht-Strahlengang vor dem Feldfacettenspiegel (20) angeordnet. Es resultiert eine flexibel gestaltbare und an Vorgabewerte gut anpassbare Beleuchtung durch die Beleuchtungsoptik.

Anmelder

Firma

Carl Zeiss SMT GmbH

Land

🇩🇪 Deutschland

Fachgebiete