Chemisch verstärkte Negativlackzusammensetzung und Strukturierungsverfahren
EP2492746
Art B1
20. November 2019
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2492746
- Aktenzeichen
- EP12157259
- Anmeldetag
- 28. Februar 2012
- Veröffentlichung
- 20. November 2019
- Erteilung
- 20. November 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/004G03F7/038G03F1/00
Abstract
A polymer comprising 0.5-10 mol% of recurring units having acid generating capability and 50-99.5 mol% of recurring units providing for dissolution in alkaline developer is used to formulate a chemically amplified negative resist composition. When used in a lithography process, the composition exhibits a high resolution and forms a negative resist pattern of a profile with minimized LER and undercut.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
4.655 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Stoner, Gerard Patrick
London, Großbritannien
1.364
Patente gesamt
33
Fachgebiete
10
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Mewburn Ellis LLP
Mewburn Ellis LLP · München