Chemisch verstärkte Negativlackzusammensetzung und Strukturierungsverfahren
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2492747
- Aktenzeichen
- EP12157262
- Anmeldetag
- 28. Februar 2012
- Veröffentlichung
- 7. November 2018
- Erteilung
- 7. November 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/004
Abstract
A polymer comprising 0.5-10 mol% of recurring units having acid generating capability and 50-99.5 mol% of recurring units providing for dissolution in alkaline developer is used to formulate a chemically amplified negative resist composition. When used in a lithography process, the composition ensures an effective sensitivity, makes more uniform the distribution and diffusion of the acid generating component in a resist film, and suppresses deactivation of acid at the substrate interface. The pattern can be formed to a profile which is improved in LER and undercut.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Fachgebiete
-
Mewburn Ellis LLP
Mewburn Ellis LLP · München