Herstellungsverfahren eines Halbleiterbauelements, und computerlesbares Speichermedium
EP2492955
Art B1
8. Januar 2014
Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2492955
- Aktenzeichen
- EP12157266
- Anmeldetag
- 28. Februar 2012
- Veröffentlichung
- 8. Januar 2014
- Erteilung
- 8. Januar 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/311
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Electron Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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