Reinigungsformulierungen und Verfahren zur Verwendung der Reinigungsformulierungen

EP2500407 Art B1 19. Juli 2017

Anmelder: Versum Materials US, LLC, Air Products and Chemicals, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2500407
Aktenzeichen
EP12159327
Anmeldetag
13. März 2012
Veröffentlichung
19. Juli 2017
Erteilung
19. Juli 2017
Rechtsraum
EP
IPC
C11D11/00C11D3/00C11D7/32C11D7/26C11D7/06C11D3/20C11D3/28C11D3/30C11D7/50C11D3/43C11D3/04
Offizieller Volltext

Abstract

A water-rich hydroxylamine formulation for photoresist and post-etch/post-ash residue removal in applications wherein a semiconductor substrate comprises aluminum. The cleaning composition comprises from about 2 to about 15% by wt. of hydroxylamine; from about 50 to about 80% by wt. of water; from about 0.01 to about 5.0% by wt. of a corrosion inhibitor; from about 5 to about 45% by wt. of a component selected from the group consisting of: an alkanolamine having a pKa<9.0, a water-miscible solvent, and a mixture thereof. Employment of such composition exhibits efficient cleaning capability for Al substrates, minimal silicon etch while protecting aluminum for substrates comprising both materials.

Anmelder

Firmen
Versum Materials US, LLC
Air Products and Chemicals, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Versum Materials US

Versum Materials US, LLC war ein US-amerikanischer Hersteller von Spezialchemikalien und -gasen für die Halbleiterfertigung, der 2019 von Merck KGaA übernommen wurde. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Oberflächentechnik, ergänzt um Farben, Klebstoffe und organische Chemie. Anmeldungen erfolgten zwischen 2002 und 2025.

393 Patente in unserer Datenbank

🇺🇸 Air Products

US-amerikanisches Industriegasunternehmen mit Sitz in Allentown, Pennsylvania, Hersteller und Lieferant von Industriegasen sowie zugehörigen Anlagen und Verfahrenstechnik.

1.682 Patente in unserer Datenbank

Weitere Vertreter

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen