Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterschicht, Verfahren zur Herstellung eines Photoelektrischen Wandlers sowie Lösung zur Formung der Halbleiterschicht
EP2515346
Art A1
24. Oktober 2012
Anmelder: Kyocera Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2515346
- Aktenzeichen
- EP10837670
- Anmeldetag
- 16. Dezember 2010
- Veröffentlichung
- 24. Oktober 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L31/04H01L21/208
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Kyocera Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Kyocera
Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Kyoto. Kyocera fertigt Keramikbauteile, Halbleiterkomponenten, Solarmodule, Druck- und Kopiersysteme sowie Elektronikprodukte für Industrie und Endverbraucher.
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