In-Ga-O-Oxid-Sinterkörper, Ziel, Oxidhalbleiterdünnschicht und Herstellungsverfahren dafür
EP2524905
Art A1
21. November 2012
Anmelder: Idemitsu Kosan Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2524905
- Aktenzeichen
- EP11732812
- Anmeldetag
- 14. Januar 2011
- Veröffentlichung
- 21. November 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C04B35/00C23C14/08C23C14/34H01L21/203
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Idemitsu Kosan Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Idemitsu Kosan
Japanisches Energie- und Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Aktiv in Mineralölverarbeitung, petrochemischen Produkten, Schmierstoffen sowie Materialien für organische Leuchtdioden (OLED).
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