Selbstjustierte Ionenimplantation für Siliziumsubstrate

EP2537177 Art A1 26. Dezember 2012

Anmelder: Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2537177
Aktenzeichen: EP11705791
Anmeldetag: 17. Februar 2011
Veröffentlichung: 26. Dezember 2012
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/225H01L21/265H01L21/266H01L31/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.

Varian Semiconductor Equipment Associates war ein US-amerikanischer Hersteller von Halbleiteranlagen, seit 2011 Teil von Applied Materials. Die Patente betreffen Ionenimplantation und Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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