Rasterelektronenmikroskop
EP2573794
Art B1
23. März 2022
Anmelder: Hitachi High-Tech Corporation, Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2573794
- Aktenzeichen
- EP11783229
- Anmeldetag
- 11. Mai 2011
- Veröffentlichung
- 23. März 2022
- Erteilung
- 23. März 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/20H01J37/28
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Hitachi High-Tech Corporation
Hitachi High-Technologies Corporation - Land
- 🇯🇵 Japan
Fachgebiete
Vertreten von
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Strehl & Partner mbB
Strehl & Partner mbB · München
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Strehl Schübel-Hopf & Partner
Strehl Schübel-Hopf & Partner · München
-
Beetz & Partner
Beetz & Partner · München