Maske für Euv-Lithografie, Euv-Lithografiesystem und Verfahren zur Optimierung der Bildgebung einer Maske

EP2583138 Art B1 22. Januar 2020

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2583138
Aktenzeichen: EP11724428
Anmeldetag: 10. Juni 2011
Veröffentlichung: 22. Januar 2020
Erteilung: 22. Januar 2020
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/22G03F1/24

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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