Modifiziertes Novolak-Phenolharz, Herstellungsverfahren und Resistzusammensetzung

EP2586806 Art B1 29. April 2020

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2586806
Aktenzeichen
EP12189273
Anmeldetag
19. Oktober 2012
Veröffentlichung
29. April 2020
Erteilung
29. April 2020
Rechtsraum
EP
IPC
C08G8/00C08L61/00C08L61/04C08L61/20G03F7/00H01B3/00H05B33/00H05K1/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

1.545 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
Vertreten von
Stuart, Ian Alexander London, Großbritannien
612
Patente gesamt
32
Fachgebiete
14
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Kunststoff- & Polymertechnik Organische Chemie Halbleiter & Elektrische Bauelemente Medizintechnik & Gesundheit Optik & Fototechnik Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
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