Zusammensetzungen und Antireflektionsbeschichtungen für Fotolithografie
EP2597518
Art B1
7. Dezember 2016
Anmelder: Dow Global Technologies LLC, Rohm and Haas Electronic Materials LLC 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2597518
- Aktenzeichen
- EP12184808
- Anmeldetag
- 18. September 2012
- Veröffentlichung
- 7. Dezember 2016
- Erteilung
- 7. Dezember 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/09G03F7/075
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Dow Global Technologies LLC
Rohm and Haas Electronic Materials LLC - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Dow Global Technologies
US-amerikanisches Tochterunternehmen des Chemiekonzerns Dow, das geistiges Eigentum verwaltet und Patente aus Forschung zu Kunststoffen, Chemikalien und Materialwissenschaften der Dow-Gruppe hält.
6.384 Patente in unserer Datenbank
🇺🇸
Rohm and Haas
Ehemaliger US-amerikanischer Spezialchemiekonzern mit Sitz in Philadelphia, unter anderem für Kunststoffe, Beschichtungen und Elektronikchemikalien bekannt. Wurde 2009 von Dow Chemical übernommen.
2.601 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Hayes, Adrian Chetwynd
London, Großbritannien
1.713
Patente gesamt
31
Fachgebiete
23
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Boult Wade Tennant LLP
Boult Wade Tennant LLP · London
-
Boult Wade Tennant
Boult Wade Tennant · London