Optisches Abbildungssystem und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithografie mit einem Derartigen Optischen Abbildungssystem

EP2598931 Art B1 2. Dezember 2020

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2598931
Aktenzeichen: EP10740596
Anmeldetag: 30. Juli 2010
Veröffentlichung: 2. Dezember 2020
Erteilung: 2. Dezember 2020
Rechtsraum: EP
IPC: G02B17/06G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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