Verfahren zum Entfernen eines Oxidfilms auf einer Oberfläche aus Kupfer oder Legierung auf Kupferbasis.

EP2604725 Art B1 13. August 2014

Anmelder: Mitsubishi Materials Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2604725
Aktenzeichen: EP12196870
Anmeldetag: 13. Dezember 2012
Veröffentlichung: 13. August 2014
Erteilung: 13. August 2014
Rechtsraum: EP
IPC: C23G1/36C23G1/10C25C1/12

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Mitsubishi Materials Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Materials

Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.

1.978 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von