Integrierte Lochmaske / Träger für Ionenimplantation

EP2622634 Art B1 3. September 2014

Anmelder: Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2622634
Aktenzeichen: EP11769982
Anmeldetag: 23. September 2011
Veröffentlichung: 3. September 2014
Erteilung: 3. September 2014
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/687

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.

Varian Semiconductor Equipment Associates war ein US-amerikanischer Hersteller von Halbleiteranlagen, seit 2011 Teil von Applied Materials. Die Patente betreffen Ionenimplantation und Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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