Verfahren zur Bestimmung der Entfernung zwischen Zwei Teilstrahlen bei einer Multi-Beamlet-Belichtungsvorrichtung
EP2638562
Art B1
1. April 2020
Anmelder: ASML Netherlands B.V., Mapper Lithography IP B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2638562
- Aktenzeichen
- EP11784636
- Anmeldetag
- 14. November 2011
- Veröffentlichung
- 1. April 2020
- Erteilung
- 1. April 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/22H01J37/244H01J37/317H01J37/04H01J37/304
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands B.V.
Mapper Lithography IP B.V. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
Peters, John Antoine
Veldhoven, Niederlande
167
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ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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Mooij, Maarten
NoneAmsterdam