Zusammensetzung zum Bilden von ferroelektrischem Dünnfilm, Verfahren zum Bilden von ferroelektrischem Dünnfilm, ferroelektrischer Dünnfilm und komplexe elektronische Komponente
EP2642510
Art A3
5. März 2014
Anmelder: Mitsubishi Materials Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2642510
- Aktenzeichen
- EP12193742
- Anmeldetag
- 22. November 2012
- Veröffentlichung
- 5. März 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/02H01L21/316C09D5/00H01L49/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Materials Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Materials
Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.
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