Planares oder rohrförmiges Sputtertarget sowie Verfahren zur Herstellung desselben
Anmelder: Materion Advanced Materials Germany GmbH, Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG, Heraeus Materials Technology GmbH & Co. KG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2647737
- Aktenzeichen
- EP13159669
- Anmeldetag
- 18. März 2013
- Veröffentlichung
- 18. April 2018
- Erteilung
- 18. April 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C22C5/06C22C1/02C23C14/34H01J37/34
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Materion Advanced Materials Germany GmbH
Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG
Heraeus Materials Technology GmbH & Co. KG - Land
- 🇩🇪 Deutschland
Deutsches Technologieunternehmen mit Sitz in Hanau. Heraeus entwickelt Materialien und Lösungen in den Bereichen Edelmetalle, Sensorik, Medizintechnik und Werkstofftechnik.
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Sammelte erste Berufsjahre in der Industrie, ab 1990 patentanwaltliche Ausbildung bei einem Hanauer Technologieunternehmen, seit 2004 ausschließlich eigene Kanzlei in Hanau. Berät zu Patenten, Gebrauchsmustern, Marken und Designs mit anwendungsnahem, industriegeprägtem Ansatz.
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