Zusammensetzung für Resist und Strahlungsempfindliche Zusammensetzung

EP2662727 Art B1 14. August 2019

Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2662727
Aktenzeichen: EP13179676
Anmeldetag: 26. Dezember 2005
Veröffentlichung: 14. August 2019
Erteilung: 14. August 2019
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/039C07C39/15C07C43/205C07C43/23G03F7/004H01L21/027C07C43/18C07C43/196C07C43/225C07C43/315C07C49/747C07C69/96C07C43/164

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Organische Chemie

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