Substratsklemmverfahren in einem Lithographiesystem

EP2662728 Art B1 18. Januar 2023

Anmelder: ASML Netherlands B.V., MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2662728
Aktenzeichen: EP13179131
Anmeldetag: 11. Juli 2008
Veröffentlichung: 18. Januar 2023
Erteilung: 18. Januar 2023
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20H01L21/67H01J37/317H01J37/20H01L21/687

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML Netherlands B.V.
MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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