Verfahren und System zur Objektbasierten Metrologie für Erweiterte Waferoberflächen-Nanotopographie
EP2663998
Art B1
25. Dezember 2019
Anmelder: KLA-Tencor Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2663998
- Aktenzeichen
- EP12734373
- Anmeldetag
- 8. Januar 2012
- Veröffentlichung
- 25. Dezember 2019
- Erteilung
- 25. Dezember 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/66H01L21/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KLA-Tencor Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
495 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Keane, Paul Fachtna
Dublin, Irland
492
Patente gesamt
30
Fachgebiete
16
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
FRKelly
FRKelly · Dublin
-
Lukaszyk, Szymon
Kancelaria Patentowa LukaszykNone