Interferometriemodul

EP2691733 Art B1 24. Juni 2020

Anmelder: ASML Netherlands B.V., Mapper Lithography IP B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2691733
Aktenzeichen
EP12712416
Anmeldetag
30. März 2012
Veröffentlichung
24. Juni 2020
Erteilung
24. Juni 2020
Rechtsraum
EP
IPC
G01B9/02G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
ASML Netherlands B.V.
Mapper Lithography IP B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Weitere Vertreter

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen