Positionsbestimmung in einem Lithografiesystem mit einem Substrat mit Teilweise Reflektierender Druckmarke

EP2699967 Art B1 13. September 2023

Anmelder: ASML Netherlands B.V., Mapper Lithography IP B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2699967
Aktenzeichen: EP12722217
Anmeldetag: 23. April 2012
Veröffentlichung: 13. September 2023
Erteilung: 13. September 2023
Rechtsraum: EP
IPC: G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML Netherlands B.V.
Mapper Lithography IP B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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