Lithographisches System für die Bearbeitung eines Artikels, Wie einer Halbleiterscheibe, und Verfahren zum Betreiben eines Lithographischen Systems für die Bearbeitung eines Artikels, Wie einer Halbleiterscheibe

EP2699968 Art B1 21. Februar 2024

Anmelder: ASML Netherlands B.V., Mapper Lithography IP B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2699968
Aktenzeichen: EP12723756
Anmeldetag: 23. April 2012
Veröffentlichung: 21. Februar 2024
Erteilung: 21. Februar 2024
Rechtsraum: EP
IPC: H01J37/317G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML Netherlands B.V.
Mapper Lithography IP B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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