Elektronenstrahlbelichtungssystem
EP2701178
Art B1
12. Februar 2020
Anmelder: ASML Netherlands B.V., Mapper Lithography IP B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2701178
- Aktenzeichen
- EP13179104
- Anmeldetag
- 30. Oktober 2003
- Veröffentlichung
- 12. Februar 2020
- Erteilung
- 12. Februar 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J3/02H01J37/06H01J37/317B82Y10/00// B82Y40/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands B.V.
Mapper Lithography IP B.V. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
Peters, John Antoine
Veldhoven, Niederlande
167
Patente gesamt
11
Fachgebiete
1
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven