Halbleitervorrichtung mit mehreren Schichten und Verfahren dafür
EP2702610
Art B1
21. September 2016
Anmelder: Micron Technology, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2702610
- Aktenzeichen
- EP12776549
- Anmeldetag
- 27. April 2012
- Veröffentlichung
- 21. September 2016
- Erteilung
- 21. September 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L27/115H01L21/8247G11C8/10H01L21/02H01L29/49
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Micron Technology, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Micron Technology
US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.
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Kanzlei
Marks & Clerk LLP
Marks & Clerk zählt zu den ältesten und international breitesten IP-Kanzleien: 1887 in Birmingham gegründet, ist sie heute mit eigenen Büros auf drei Kontinenten präsent und deckt das gesamte Spektrum des gewerblichen Rechtsschutzes ab.
37.082
Patente gesamt
30
Patentanwälte
8
Standorte
Weitere Vertreter
-
Maury, Richard Philip
NoneSt. Albans