Herstellungsverfahren für ein Halbleiterbauelement
Anmelder: IMEC VZW, Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Limited, IMEC 🇧🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2704199
- Aktenzeichen
- EP12182800
- Anmeldetag
- 3. September 2012
- Veröffentlichung
- 1. Januar 2020
- Erteilung
- 1. Januar 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L29/165H01L29/417H01L29/45H01L29/78H01L21/285
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- IMEC VZW
Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Limited
IMEC - Land
- 🇧🇪 Belgien
Imec ist ein belgisches Forschungszentrum mit Sitz in Leuven, das auf Nanoelektronik, Halbleitertechnologie und digitale Technologien spezialisiert ist.
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Taiwan Semiconductor Manufacturing (TSMC) ist der weltweit größte reine Halbleiter-Auftragsfertiger mit Sitz in Hsinchu, Taiwan. Der weit überwiegende Teil des Patentportfolios betrifft Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt um Datenspeicherung und Nachrichtentechnik. Anmeldungen laufen durchgehend von 2000 bis 2022.
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