Lithografisches Strukturierungsverfahren und Fotolacke zur Verwendung Darin
EP2729844
Art B1
28. Juli 2021
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2729844
- Aktenzeichen
- EP12725373
- Anmeldetag
- 30. Mai 2012
- Veröffentlichung
- 28. Juli 2021
- Erteilung
- 28. Juli 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/004G03F7/075C08F30/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
Slenders, Petrus J. W
Eindhoven, Niederlande
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ASML Netherlands B.V · Veldhoven