Verfahren zum Entwurf von Zufallsmustern, Vorrichtung zum Entwurf von Zufallsmustern, und optisches Substrat mit Zufallsmuster nach demselben Verfahren

EP2743764 Art B1 21. Juli 2021

Anmelder: LG Innotek Co., Ltd. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2743764
Aktenzeichen: EP13197456
Anmeldetag: 16. Dezember 2013
Veröffentlichung: 21. Juli 2021
Erteilung: 21. Juli 2021
Rechtsraum: EP
IPC: G02F1/1343

Abstract

Disclosed are a method of designing a random pattern to be used for forming a conductive mesh pattern, an apparatus for designing the random pattern and an optical substrate including the conductive mesh pattern based on the random pattern according to the same method. The method includes the steps of dividing a pattern design region in a plurality of unit regions; setting at least one point having random coordinates within each unit region; and connecting each point within each unit region to other points lying within adjacent unit regions in a first direction or a second direction.

Anmelder

Firma: LG Innotek Co., Ltd.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 LG Innotek

Südkoreanisches Elektronikunternehmen mit Sitz in Seoul, Tochtergesellschaft der LG-Gruppe. Entwickelt Komponenten für Kamera- und Optikmodule, Halbleiterträger, Motoren und Materialien für Mobilgeräte, Fahrzeuge und Displays.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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