Verfahren zur Herstellung von Substratdurchgängen
EP2761646
Art B1
28. Februar 2018
Anmelder: Micron Technology, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2761646
- Aktenzeichen
- EP12836871
- Anmeldetag
- 5. September 2012
- Veröffentlichung
- 28. Februar 2018
- Erteilung
- 28. Februar 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/768C25D5/10C25D5/50H05K3/42C25D5/12H01L23/48// H01L23/498H01L21/48C25D5/48
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Micron Technology, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Micron Technology
US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.
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Kanzlei
Marks & Clerk LLP
Marks & Clerk zählt zu den ältesten und international breitesten IP-Kanzleien: 1887 in Birmingham gegründet, ist sie heute mit eigenen Büros auf drei Kontinenten präsent und deckt das gesamte Spektrum des gewerblichen Rechtsschutzes ab.
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