Reflektierendes Optisches Element für den Euv-Wellenlängebereich, Verfahren zur Herstellung und Korrektur eines Solchen Elements, Projektionslinse für die Mikrolithographie enthaltend ein Solches Element, und Projektionsbeleuchtungsgerät enthaltend eine Solche Projektionslinse

EP2764407 Art A1 13. August 2014

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2764407
Aktenzeichen: EP12756669
Anmeldetag: 14. August 2012
Veröffentlichung: 13. August 2014
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/24G03F1/60G03F1/00G03F1/72G03F7/20G21K1/06G06F1/24G02B5/08G02B13/14B29D11/00B82Y10/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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