Phasenverschiebungsmaske, Verfahren zur Bildung einer Asymmetrischen Struktur, Herstellungverfahren für ein Beugungsgitter und Herstellungsverfahren für ein Halbleiterbauelement
EP2765455
Art A1
13. August 2014
Anmelder: Hitachi High-Tech Corporation, Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2765455
- Aktenzeichen
- EP12837928
- Anmeldetag
- 13. September 2012
- Veröffentlichung
- 13. August 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/26H01L21/027G03F1/00G03F1/30H01L21/3065H01L21/308
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Hitachi High-Tech Corporation
Hitachi High-Technologies Corporation - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi High-Tech Corporation
Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.
3.840 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Calderbank, Thomas Roger
London, Großbritannien
1.660
Patente gesamt
34
Fachgebiete
19
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Mewburn Ellis LLP
Mewburn Ellis LLP · München