Haltematerial für Gasbehandlungsvorrichtung, Gasbehandlungsvorrichtung und Produktionsverfahren dafür
EP2808511
Art B1
17. März 2021
Anmelder: Nichias Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2808511
- Aktenzeichen
- EP12866740
- Anmeldetag
- 14. November 2012
- Veröffentlichung
- 17. März 2021
- Erteilung
- 17. März 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- F01N3/28B01D53/86D21H13/38F01N3/021B01D46/24C03C25/42C03C13/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Nichias Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nichias
Nichias ist ein japanischer Hersteller von Dämm-, Dichtungs- und Industriematerialien mit Sitz in Tokio. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Maschinenelemente und Fluidtechnik sowie anorganische Chemie und Werkstoffe, ergänzt durch Energie- und Antriebstechnik. Anmeldungen laufen durchgehend seit 2000.
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