Methode zur Herstellung eines Filters umfassend eine Photokatalysatorschicht auf einem Substrat
Anmelder: Toshiba Materials Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2810713
- Aktenzeichen
- EP14183819
- Anmeldetag
- 31. Januar 2007
- Veröffentlichung
- 18. Dezember 2019
- Erteilung
- 18. Dezember 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- A61L9/16B01J23/30B01J37/34B01D53/88B01J35/00B01J35/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Toshiba Materials Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
Toshiba Materials ist eine japanische Tochtergesellschaft des Toshiba-Konzerns, spezialisiert auf keramische und magnetische Werkstoffe. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie anorganische Chemie und Werkstoffe, ergänzt um Metallurgie. Anmeldungen erstrecken sich über die Jahre 2004 bis 2024.
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