Lithografiesystem und Verfahren zur Verarbeitung eines Ziels, Wie Etwa eines Wafers
EP2823361
Art B1
2. März 2022
Anmelder: ASML Netherlands B.V., Mapper Lithography IP B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2823361
- Aktenzeichen
- EP13708799
- Anmeldetag
- 8. März 2013
- Veröffentlichung
- 2. März 2022
- Erteilung
- 2. März 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/317
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands B.V.
Mapper Lithography IP B.V. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven