Lithografiesystem und Verfahren zur Verarbeitung eines Ziels, Wie Etwa eines Wafers

EP2823361 Art B1 2. März 2022

Anmelder: ASML Netherlands B.V., Mapper Lithography IP B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2823361
Aktenzeichen
EP13708799
Anmeldetag
8. März 2013
Veröffentlichung
2. März 2022
Erteilung
2. März 2022
Rechtsraum
EP
IPC
H01J37/317
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
ASML Netherlands B.V.
Mapper Lithography IP B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen