Beleuchtungsoptik für die Projektionslithografie

Details

Veröffentlichungs-Nr.

EP2824512

Aktenzeichen

EP14175389

Anmeldetag

2. Juli 2014

Veröffentlichung

17. Juni 2020

Erteilung

17. Juni 2020

Rechtsraum

EP

IPC

G03F7/20

Abstract

Eine Beleuchtungsoptik für die Projektionslithografie dient zur Beleuchtung eines Beleuchtungsfeldes (3) mit Beleuchtungslicht (8) einer primären Lichtquelle (6). Die Beleuchtungsoptik hat eine Rasteranordnung (12, 16) zur Vorgabe einer Form des Beleuchtungsfeldes (3), eine Übertragungsoptik (17) zur überlagernden Übertragung des Beleuchtungslichts (8) hin zum Beleuchtungsfeld (3), und eine Beleuchtungswinkel-Variationseinrichtung (14). Diese lenkt das Beleuchtungslicht (8) mit unterschiedlichen Ablenkwinkeln ab. Die Beleuchtungswinkel-Variationseinrichtung (14) hat mindestens eine verlagerbare Beleuchtungswinkel-Variationseinheit (14b) zur Erzeugung eines Ablenkwinkels für das Beleuchtungslicht (8). Die verlagerbare Beleuchtungswinkel-Variationseinheit (14b) ist relativ zur Rasteranordnung (12, 16) zur Beeinflussung einer Größe eines zweiten Ablenkwinkels, den die verlagerbare Beleuchtungswinkel-Variationseinheit (14b) erzeugt, in der Ablenkebene (xz) senkrecht zu einer Objektverlagerungsrichtung (y) verlagerbar. Es resultiert eine Beleuchtungsoptik, bei der eine Beleuchtungsintensität über das Beleuchtungsfeld beleuchtungswinkelabhängig gezielt beeinflusst werden kann.

Anmelder

Firma

Carl Zeiss SMT GmbH

Land

🇩🇪 Deutschland

Fachgebiete