Ätzverfahren
EP2838112
Art B1
6. April 2016
Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2838112
- Aktenzeichen
- EP14180553
- Anmeldetag
- 11. August 2014
- Veröffentlichung
- 6. April 2016
- Erteilung
- 6. April 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/311H01L21/3213H01J37/32H01L29/66
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Electron Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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