System und Verfahren zur Trennung eines Hauptimpuls- und Vorimpulsstrahls von einer Laserquelle

EP2856583 Art B1 19. Oktober 2022

Anmelder: ASML Netherlands BV, TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing GmbH, Trumpf Laser Systems For Semiconductor Manufacturing GmbH 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2856583
Aktenzeichen: EP13797925
Anmeldetag: 1. Mai 2013
Veröffentlichung: 19. Oktober 2022
Erteilung: 19. Oktober 2022
Rechtsraum: EP
IPC: H01S3/00G02B27/14H05G2/00G02B27/10G03F7/20// G02B26/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML Netherlands BV
TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing GmbH
Trumpf Laser Systems For Semiconductor Manufacturing GmbH
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML Netherlands

ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.

390 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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